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半导体封装厂研磨废水系统控制条件请求帮助

发布于:2008-01-24 12:45:24 来自:环保工程/水处理 7 2094 [复制转发]
我们公司有一套处理处理半导体封装厂研磨废水的系统,废水主要成分是硅.
工艺为:PH调节→混凝→絮凝→沉淀;PH调节用的是30%的NaOH,正常控制在10-11之间;混凝剂用的是20%的Fecl3溶液;絮凝剂用的是PAM(聚炳烯酰胺:分子量800万)
现在问题是:为了保证出水水质,混凝槽的PH值控制一直偏低(正常都在5.5-6.0之间),一旦高于6或低于5.5,絮凝槽絮凝效果就会变差,进而影响到出水水质,但如果一直保持这样的控制,出水的PH又会偏低,稍不留意,就会低于指标6,所以特请大家帮分析一下原因?谢谢!

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  • wxdy1992
    wxdy1992 沙发
    研磨废水回收处理设备是我们公司生产的专业设备。研磨废水中主要是SS,而且颗粒度在100nm左右,不溶于水,也不易沉淀,用传统的絮凝处理工艺占地面积大,运行成本高,需要加药处理,出水稳定性差,而且水的回用比较困难。我们公司的制造的设备处理过程中不需要加任何药剂,运行成本低,处理后的水可以直接回用到RO系统中去。有兴趣者可和我联系。 neowater@163.com
    2009-03-11 20:16:11

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  • zhang9401
    zhang9401 板凳
    将工艺修改一下,加混凝剂→PH调节→混凝→絮凝→沉淀,你可以试试看,
    2008-03-26 15:25:26

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  • zhang9401
    zhang9401 地板
    2008-03-26 15:21:26

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  • zengheng
    zengheng 4楼
    你们厂用的是FeCl3作为混凝剂,它的pH最好控制在8~9.这样三价铁离子能更好的形成Fe(OH)3胶体.它的也在排放范围内.当然,如果想节约药剂消耗,可以将它的偏碱性出水排到AWN调节池,中和酸性废水.你们的CMP废水系统和HFW系统都可以这样处理.
    另外,你们将pH值提升后出现的效果下降问题可能是沉淀池或者PAM混合等方面的问题(对你厂的CMP废水系统情况不太了解,我个人认为是这样的)
    2008-03-03 17:34:03

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  • iamdhj
    iamdhj 5楼
    我们的出水PH指标是6-9,现在出水一直在6.5以下,很不稳定,我想问的是如何提高出水PH!还要保证出水水质
    2008-01-27 07:49:27

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